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Base documentaire


  1. A measure of goodness-of-fit for the lognormal model applied to occupational exposures.

    Article - En anglais

    Mots-clés Pascal : Exposition professionnelle, Toxique, Composé chimique, Loi lognormale, Validité, Modèle statistique, Homme, Méthodologie

    Mots-clés Pascal anglais : Occupational exposure, Poison, Chemical compound, Lognormal distribution, Validity, Statistical model, Human, Methodology

    Logo du centre Notice produite par :
    Inist-CNRS - Institut de l'Information Scientifique et Technique

    Cote : 92-0116938

    Code Inist : 002B30A01A1. Création : 199406.