logo BDSP

Base documentaire


Votre avis nous intéresse

Le réseau BDSP met en oeuvre un projet d'innovation et d'amélioration de ses services, dans le souci constant de proposer des contenus de qualité adaptés aux besoins des utilisateurs.

Identifier de nouvelles sources de financements est la condition nécessaire pour assurer la poursuite et la pérennité de cet outil unique qu'est la BDSP, tout en le faisant évoluer.

Pour définir un nouveau modèle économique, nous avons besoin de votre avis : merci de répondre à notre enquête (temps estimé : 5 minutes).

Participer maintenant
Participer plus tard J'ai déjà participé

  1. Contamination in an experimental gallium arsenide etch system.

    Article - En anglais

    A study in a university setting was undertaken on the by-products which accumulated within a plasma etching reactor system from two years of sporadic dry etching of gallium arsenide wafers.

    The deposits on the reactor chamber walls, in the vaccum pump oil dans its filter, in the oil mist eliminator, and in the exhaust charcoal canister were analyzed for 33 elements by simultaneous inductively coupled plasma atomic emission spectroscopy.

    Mots-clés Pascal : Pollution intérieur, Exposition professionnelle, Fabrication microélectronique, Gallium Arséniure, Analyse élémentaire, Contrôle, Formation polluant, Gravure plasma, Spectrométrie émission, Spectrométrie ICP, Hydrocarbure halogéné, Etude expérimentale

    Mots-clés Pascal anglais : Indoor pollution, Occupational exposure, Microelectronic fabrication, Gallium Arsenides, Elementary analysis, Check, Pollutant creation, Plasma etching, Emission spectrometry, Inductive coupling plasma spectrometry, Halocarbon, Experimental study

    Logo du centre Notice produite par :
    Inist-CNRS - Institut de l'Information Scientifique et Technique

    Cote : 91-0212676

    Code Inist : 001D16C06. Création : 199406.